在半導體製程中，F(xiàn)OUP內(nèi)的污染是一個嚴峻的挑戰(zhàn)，從乾淨到受污染的晶圓，過程涉及FOUP排氣、轉(zhuǎn)移到晶圓以及FOUP可能再次受到污染等階段，過去因為缺乏監(jiān)測解決方案，污染物的持續(xù)交換會放大影響，導致缺陷、良率下降和設(shè)備使用壽命縮短。透過創(chuàng)控的微環(huán)境監(jiān)測整合式解決方案，能精準協(xié)助客戶監(jiān)控包括NH3、Amines、SO2、IPA、Toluene、Acetone、HF、HCl等常見污染。

     創(chuàng)控MiTAP系列產(chǎn)品提供完整AMC監(jiān)測運用，從環(huán)境監(jiān)測、晶圓搬運盒（FOUP）潔淨度確認到設(shè)備機臺內(nèi)的污染管控，都有最符合經(jīng)濟效益的解決方案核心產(chǎn)品。從全廠環(huán)境到廠內(nèi)、製程中之設(shè)備，於現(xiàn)地單點或搭配多點採樣系統(tǒng)，MiTAP Manifold System於先進製程更貼近客戶需求；MiTAP Cart System的移動優(yōu)勢更全面改良升級，廣泛運用於廠內(nèi)、無塵室、化學濾網(wǎng)效能評估。MiTAP M3量測酸性、鹼性氣體，創(chuàng)控產(chǎn)品量測物種也從VOCs有機物種的量測，擴大至AMC酸鹼物種的分析，完善AMC整體監(jiān)測方案。

     創(chuàng)控深耕半導體製程AMC監(jiān)控管理十餘年，深知客戶在廠務、設(shè)備、管理、品管等各方面會面臨到AMC困擾，除致力於提供客製化AMC監(jiān)控解決方案，更因應產(chǎn)業(yè)發(fā)展預先投入新產(chǎn)品研發(fā)，超前部署市場需求。AI應用推動半導體先進製程投資，創(chuàng)控受惠先進製程對AMC監(jiān)測的剛性需求，在先進製程對於生產(chǎn)環(huán)境之潔淨度要求更為嚴格下，創(chuàng)控亦持續(xù)研發(fā)新產(chǎn)品協(xié)助客戶解決更多痛點。

     SEMICON Taiwan 2024國際半導體展以賦能AI無極限為主軸，聚焦先進製程等熱門議題，創(chuàng)控提供先進製程完整的AMC監(jiān)控解決方案，協(xié)助半導體良率提升，期為AI趨勢浪潮扮演幕後推手角色，與半導體產(chǎn)業(yè)共創(chuàng)商機。